與傳統電鍍技術相比，真空鍍膜具有鍍層薄，速度快，附著力好等優勢，適合中國金屬、塑料等表面信息處理。且沒有廢水環境污染，在環保上具有存在一定發展優勢，因此我們受到了社會市場的追捧。
常見的真空鍍膜工藝分為蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍膜和化學氣相沉積鍍膜。它們各有優勢和針對性，如何選擇合適的真空鍍膜已成為生產企業發展和創新的必然課題。
一、真空蒸發鍍膜
真空蒸發鍍膜是在真空條件下，被蒸發的物質被蒸發器加熱升華，蒸發的顆粒直接流向基片并沉積在基片上形成固體薄膜，或者蒸發的鍍膜材料被加熱的一種真空鍍膜方法。
優點: 設備簡單，操作方便; 膜純度高，厚度可以更精確地控制; 成膜速度快，效率高。
缺點:密度差(只有理論密度的95%)；薄膜附著力小。
目前，真空蒸發鍍膜技術更多的應用于中國建筑信息工程公司五金、衛浴五金、鐘表、小五金，甚至輪轂、不銹鋼型材、家具、照明控制設備及酒店文化用品、裝飾品的表面進行處理。
二、真空濺射鍍膜
當具有數十電子伏特或更高動能的帶電粒子轟擊材料表面時，原子獲得足夠的能量飛濺到氣相中。真空濺射鍍膜是利用濺射現象來實現各種薄膜的制備。
優點：膜厚可控性和重復性好；與基片的附著力強；膜層純度高質量好；可制備與靶材不同的物質膜。
缺點：成膜速度比蒸發鍍膜低；基片溫度高；易受雜質氣體影響；裝置結構較復雜。
目前最常用的濺射鍍膜技術是磁控濺射鍍膜技術。這種技術能增加與氣體的碰撞幾率，提高靶材的濺射速率，最終提高沉積速率。因此更適用于具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的功能性薄膜、裝飾領域、微電子領域。
三、真空離子鍍膜
真空離子鍍膜是在真空蒸發鍍和濺射鍍膜的基礎上不斷發展結合起來的一種鍍膜新技術。通過在等離子體中進行分析整個氣相沉積形成過程，真空離子鍍膜技術工藝設計大大增加提高了膜層粒子作為能量，可以自己獲得更多更優異性能的膜層，擴大了“薄膜”的應用研究領域。
優點: 附著力強，不易脫落; 提高涂膜覆蓋率; 涂布質量; 成膜速度快，密度高，顆粒小。
缺點:基板必須是導電材料。
由于鍍膜技術性能更加出色，真空離子鍍膜有著更多更廣的應用研究領域，目前我國主要可以應用于：機械設計零件、飛機、船舶、汽車、排氣管、飛機作為發動機、高速轉動件、工具、超硬工模具等。
化學氣相沉積(CVD)
CVD技術使用氣態化合物或化合物的混合物在基底的加熱表面上反應，從而在基底表面上形成非揮發性涂層。
優點: 操作簡單，柔韌性強，適用于單一或復合薄膜和復合薄膜; 適用范圍廣; 沉積速度可達每分鐘幾微米到幾百微米，生產效率高; 適用于復雜形狀的基材涂布; 涂布致密性好。
缺點:沉積溫度高容易導致基板性能下降；反應氣體和尾氣可能具有一定的腐蝕性、易燃性和毒性；涂層很薄。
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